普发真空HPA 220 / SPM 220分析设备

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高压分析仪 HPA 220

在压力范围高达 50 hPa 下的气体分析

高压分析仪 HPA 220 是一个模块化、灵活实用的质谱仪系统，它带有一个干式涡轮分子泵组，可用于在压力高达 50 hPa 的真空中进行的气体分析。

根据 HPA 220 的用途，有五种不同电动气动以及手动操作的进气口阀可供选择。

产品优势

• 由于其 5 种手动、电动气动操作的进气口选择，使得它在压力高达 50 hPa 压下为分析、监测和控制过程提供了很大的灵活性。

• 通过各种数字和模拟输入和输出，使系统集成方便而灵活。

• 多重操作允许多个质谱仪 系统只用一台电脑进行数据评估。

• 紧凑的尺寸实现灵活的集成。

应用

• 在 1 · 10-7 至 50 hPa 的压力范围内进行真空工艺的分析、监测和控制

• 真空镀膜系统的制造商和操作员

• 半导体生产

• 光刻

• 冶金

• 真空炉

• 研发

镀膜工艺监测器 SPM 220

10-2 hPa 的即时镀膜工艺气体分析

真空镀膜工艺监测器 SPM 220 为镀膜工艺的定性和定量气体分析提供了上乘的解决方案。HiPace 涡轮分子泵组和质谱仪系统的组合加上专门开发的镀膜工艺监测器离子源，在高达 10-2 hPa 的压力下，实现了精准到分钟的工艺气体分析。

普发真空还提供了一个带有压差孔板法兰的版本作为选择，使得在高达 10 hPa 的压力范围里进行直接的工艺气体分析成为了可能。

产品优势

• 用于瞬时过程监测的镀膜工艺监测器离子源

• 用于 H2、O2、H2O 和 CO2 的优良检测限

• 对测量结果的*小化背景影响

• 压力高达 10 hPa 的压差版本

• 多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估

• 灵活集成的紧凑尺寸

• 通过各种数字和模拟输入和输出，使系统集成方便而灵活

应用

• 在高达 10-2 hPa 的压力下，镀膜工序的分析可精准到分钟

• 真空镀膜系统的制造商和操作员

• 半导体生产

• 玻璃镀膜

• 薄膜太阳能电池发电

• 研发

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